[发明专利]一种在PCB用铜箔表面涂覆硅烷偶联剂的工艺有效

专利信息
申请号: 202111514123.3 申请日: 2021-12-10
公开(公告)号: CN114107974B 公开(公告)日: 2022-09-23
发明(设计)人: 薛奇;李林玲;陈葳;王勇;滕超;章晨 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: C23C22/52 分类号: C23C22/52;C23C22/73;C23C22/77;H05K3/22;G01N21/84;G01N23/2273
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 210008 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 pcb 铜箔 表面 硅烷偶联剂 工艺
【权利要求书】:

1.一种在高频高速PCB用铜箔表面涂覆硅烷偶联剂的工艺,将PCB用铜箔用95%的乙醇溶液洗净,配置浓度为0.1~5wt%的硅烷偶联剂乙醇/水溶液,其中乙醇-水的体积比为5~20∶1,用冰醋酸调节溶液的pH值为3~5,在25℃充分搅拌水解后得到硅烷偶联剂处理液;将硅烷偶联剂处理液均匀喷洒于空白铜箔表面,为5~50mL/m2,喷完后立即使用不锈钢金属棒将铜箔表面的偶联剂处理液辊压均匀;30s~10min后,干燥,得到硅烷偶联剂喷涂的铜箔,然后在105℃烘1h~2h,其特征在于接着将此硅烷偶联剂/铜箔,浸泡于体积比为5~20∶1的乙醇-水混合溶剂中,温度为50℃~80℃,超声洗涤20~50min后取出,干燥,得到目标铜箔;用AFM-IR化学成像分析,及热失重和XPS测试目标铜箔,其表面的偶联剂厚度为1.8~3.0nm,且分布均匀。

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