[发明专利]一种超薄ZIF-67纳米片及其制备方法有效
| 申请号： | 202111511020.1 | 申请日： | 2021-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN114163652B | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | 芮一川;金作明;徐雨田;石江珊;王晓洁 | 申请（专利权）人： | 上海工程技术大学 |
| 主分类号： | C08G83/00 | 分类号： | C08G83/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 褚明伟 |
| 地址： | 201620 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及超薄二维修饰金属有机框架材料技术领域，尤其是涉及一种超薄ZIF‑67纳米片及其制备方法。本发明采用价格较低的六水合硝酸钴或六水合氯化钴为钴源做框架结构的金属节点，以二甲基咪唑为有机配体做框架的支架，用无水乙醇和N,N‑二甲基甲酰胺为溶剂；在室温条件下反应30分钟后陈化24小时，经离心清洗干燥处理后，得到超薄ZIF‑67纳米片。本发明制备得到的ZIF‑67纳米片呈二维片层结构，其尺寸大小20‑200nm，厚度为5‑10nm。与现有技术相比，本发明具有产品反应温度低，制备工艺简便，成本低廉和可规模化合成，产品本身尺寸更小且更易控制，比表面积更大以及活性位点更多等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超薄 zif 67 纳米 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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