[发明专利]一种超薄ZIF-67纳米片及其制备方法

权利要求书

1.一种超薄ZIF-67纳米片的室温制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将钴盐溶于无水乙醇和N,N-二甲基甲酰胺的混合溶剂中，混匀后得到钴盐溶液；

(2)将二甲基咪唑溶于无水乙醇和N,N-二甲基甲酰胺的混合溶剂中，混匀后得到二甲基咪唑溶液；

(3)将步骤(1)得到的钴盐溶液加入到步骤(2)得到的二甲基咪唑溶液中反应，反应后静置老化，后处理得到超薄ZIF-67纳米片；

整个过程在室温下进行。

2.根据权利要求1所述的一种超薄ZIF-67纳米片的室温制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述钴盐选自六水合硝酸钴或六水合氯化钴中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的一种超薄ZIF-67纳米片的室温制备方法，其特征在于，步骤(1)中，无水乙醇和N,N-二甲基甲酰胺的混合溶剂中无水乙醇和N,N-二甲基甲酰胺的体积比为1：1-5。

4.根据权利要求1所述的一种超薄ZIF-67纳米片的室温制备方法，其特征在于，步骤(1)中，钴盐与无水乙醇和N,N-二甲基甲酰胺的混合溶剂的用量比为3.5-4.5mmol：100-140ml。

5.根据权利要求1所述的一种超薄ZIF-67纳米片的室温制备方法，其特征在于，步骤(2)中，无水乙醇和N,N-二甲基甲酰胺的混合溶剂中无水乙醇和N,N-二甲基甲酰胺的体积比为1：1-5。

6.根据权利要求1所述的一种超薄ZIF-67纳米片的室温制备方法，其特征在于，步骤(2)中，二甲基咪唑与无水乙醇和N,N-二甲基甲酰胺的混合溶剂的用量比为14-18mmol：100-140ml。

7.根据权利要求1所述的一种超薄ZIF-67纳米片的室温制备方法，其特征在于，步骤(3)中，钴盐溶液中的钴盐和二甲基咪唑溶液中的二甲基咪唑的摩尔比为1：3-5。

8.根据权利要求1所述的一种超薄ZIF-67纳米片的室温制备方法，其特征在于，步骤(3)中，后处理为将静置老化后得到的溶液离心，然后将离心得到的沉淀进行清洗处理；

清洗过程中，用无水乙醇和N,N-二甲基甲酰胺分别清洗两遍。

9.一种通过权利要求1-8任一所述方法制备得到的超薄ZIF-67纳米片。

10.根据权利要求9所述的一种超薄ZIF-67纳米片，其特征在于，所述超薄ZIF-6纳米片尺寸大小为20-200nm，厚度为5-10nm。