[发明专利]一种双真空舱室晶圆质子辐照装置及辐照方法有效
| 申请号： | 202111509361.5 | 申请日： | 2021-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN113903490B | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 吕银龙;葛涛;王婉琳;张俊新;冯雨;石玉博;郭如勇;孙玺 | 申请（专利权）人： | 国核铀业发展有限责任公司;北京核力同创科技有限公司;无锡市核力创芯科技有限公司 |
| 主分类号： | G21K5/00 | 分类号： | G21K5/00;H01L21/263 |
| 代理公司： | 北京知联天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11594 | 代理人： | 张迎新 |
| 地址： | 100089 北京市海淀区清*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种双真空舱室晶圆质子辐照装置及辐照方法，所述双真空舱室晶圆质子辐照装置包括：晶圆辐照真空舱和换片真空舱，所述晶圆辐照真空舱和换片真空舱通过连接真空段连通；所述连接真空段外设有屏蔽墙；所述晶圆辐照真空舱设置于辐照厅，所述换片真空舱设置于辐照前厅，所述屏蔽墙把所述辐照厅和辐照前厅密封隔离开。所述辐照装置非常适合于高能质子辐照，有利于大幅减轻工作人员所受到的射线伤害，可以实现晶圆的均匀化辐照，提高辐照质量，容量大，提高生产效率，保证了晶圆托盘平稳传输，有效到位，不会对大气造成活化，有助于从两个方面提高辐照精度能够实现高性能IGBT芯片的生产和软度因子大于2的快软恢复快软恢复二极管的制造。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 舱室 质子 辐照 装置 方法 | ||
【主权项】：
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