[发明专利]一种局部镀膜散热片加工方法在审
| 申请号： | 202111451934.3 | 申请日： | 2021-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN114134474A | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 张于光;郭明哲;胡玮;吴玉红 | 申请（专利权）人： | 联德电子科技（常熟）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/04;C23C14/16;C23C14/24;C23C14/32 |
| 代理公司： | 北京化育知识产权代理有限公司 11833 | 代理人： | 闫露露 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种局部镀膜散热片加工方法，包括以下步骤：步骤(1).将需要镀膜的金属产品放置在气密箱内；步骤(2).通过电子在电场作用下跟氩原子发生碰撞产生的正离子和新电子，氩正离子以高能量抨击靶表面，将指定的金属镀材并从其表面分离出金属镀材的原子或分子，抨击散射出的靶沉积在散热片表面形成的薄膜；步骤(3).在金属镀膜空间外侧设有位置控制磁场，控制镀膜方向和位置。本发明方法纯机器操作过程方便控制，镀膜速率连续稳定，镀膜方向可调整具有指向性，需要哪面电镀就可哪面电镀，没有废气废水产生。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 局部 镀膜 散热片 加工 方法 | ||
【主权项】：
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