[发明专利]石墨相氮化碳/空位氧化铋纳米片复合材料、制备方法和应用在审
| 申请号： | 202111446635.0 | 申请日： | 2021-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN116195593A | 公开（公告）日： | 2023-06-02 |
| 发明（设计）人： | 陈欢;管震;贺南南;张陈;江芳 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | A01N59/00 | 分类号： | A01N59/00;A01N59/16;B01J27/24;A01P1/00;A61L9/18;A61L101/02 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 刘海霞 |
| 地址： | 210094 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种石墨相氮化碳/空位氧化铋纳米片复合材料、制备方法和应用。所述方法先分别制备g‑C |
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| 搜索关键词： | 石墨 氮化 空位 氧化 纳米 复合材料 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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