[发明专利]高稳定性高饱和度光子晶体结构生色织物的大面积制备方法在审
| 申请号： | 202111437620.8 | 申请日： | 2021-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN114164661A | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 邵建中;王晓辉;唐族平;胡敏干;高扬;刘一嘉 | 申请（专利权）人： | 浙江理工大学;海宁绿盾纺织科技有限公司;浙江盛榕典雅新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | D06M15/233 | 分类号： | D06M15/233;D06M11/74;D06M11/79;D06M15/263;D06M15/53;D06M15/564;D06M101/06;D06M101/10;D06M101/32;D06M101/38 |
| 代理公司： | 浙江永航联科专利代理有限公司 33304 | 代理人： | 蔡鼎 |
| 地址： | 310018 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高稳定性高饱和度光子晶体结构生色织物的大面积制备方法，该方法包括如下步骤：S1、纺织基材的表面改性：在纺织基材表面涂覆特种高分子聚合物，加热固化成膜，得到带有高分子层的织物；S2、配置含有活化剂的纳米微球分散液，通过外力诱导作用使该纳米微球分散液在S1得到的带有高分子层的织物表面呈均匀分布；S3、将S2所得复合物加热处理，最后得到大面积的光子晶体结构生色织物。本发明方法可解决光子晶体结构生色织物的颜色饱和度和结构稳定性难以兼得的难题，并解决大面积无裂缝和大面积快速组装等光子晶体结构生色纺织品开发中的难点。 | ||
| 搜索关键词： | 稳定性 饱和度 光子 晶体结构 生色 织物 大面积 制备 方法 | ||
【主权项】：
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