[发明专利]高稳定性高饱和度光子晶体结构生色织物的大面积制备方法

权利要求书

1.一种高稳定性高饱和度光子晶体结构生色织物的大面积制备方法，其特征在于该方法包括如下步骤：

S1、纺织基材的表面改性：在纺织基材表面涂覆特种高分子聚合物，加热固化成膜，得到带有高分子层的织物；

所述特种高分子聚合物为软段硬段共聚型聚氨酯类高分子聚合物，或者软段硬段共聚型聚丙烯酸类高分子聚合物；

S2、配置含有活化剂的纳米微球分散液，通过外力诱导作用使该纳米微球分散液在S1得到的带有高分子层的织物表面呈均匀分布；

含有活化剂的纳米微球分散液以重量百分比计的组成为：纳米微球15-55wt％，碳黑0.02-0.1wt％，活化剂1-10wt％，余量为水；

S3、将S2所得复合物加热处理，完成纳米微球的组装、界面层的活化和迁移、复合物的稳定固化，最后得到大面积的光子晶体结构生色织物。

2.根据权利要求1所述的大面积制备方法，其特征在于：所述软段硬段共聚型聚氨酯类高分子聚合物，硬段选自甲苯二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、1,6-六亚甲基二异氰酸酯中的一种；软段为具有结晶性能的长碳链软物质，重复单元中碳链长度为4个C以上，软段选自聚己二酸-1，4丁二醇酯、聚己二酸1，6己二醇酯、聚-1，6-亚己基-碳酸酯中一种；

所述软段硬段共聚型聚丙烯酸类高分子聚合物，硬段选自甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸羟乙酯或丙烯酸甲酯中的一种，软段是具有4个C以上的长直链单体，软段选自丙烯酸丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正己酯、丙烯酸异辛酯中的一种。

3.根据权利要求1所述的大面积制备方法，其特征在于：所述纳米微球为有机高分子聚合物聚苯乙烯(PS)纳米微球、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)纳米微球、聚苯乙烯@聚多巴胺(PS@PDA)、聚苯乙烯@二氧化硅(PS@SiO₂)、聚(苯乙烯-丙烯酸羟乙酯)(P(St-HEA))、聚(苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯)(P(St-MMA))、聚(苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸)(P(St-MMA-MAA))、聚(苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸)(P(St-MMA-AA))、聚(苯乙烯-丙烯酸丁酯-甲基丙烯酸甲酯)(P(St-BA-MMA))、聚(苯乙烯-甲基丙烯酸)(P(St-MAA))以及无机二氧化硅(SiO₂)纳米微球中一种或几种。

4.根据权利要求1所述的大面积制备方法，其特征在于：所述活化剂为两亲分子脂肪醇聚氧乙烯醚，聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯，烷基酚聚氧乙烯醚，脂肪酸聚氧乙烯酯，脂肪酸甲酯乙氧基化物，聚丙二醇的环氧乙烷加成物中的一种或几种的混合物。

5.根据权利要求1所述的大面积制备方法，其特征在于：S3中，加热处理条件为：温度50-80℃，湿度50-70％，时间2-10min。

6.根据权利要求1所述的大面积制备方法，其特征在于：特种高分子聚合物的涂覆量为8-30克/平米(干重)。

7.根据权利要求1所述的大面积制备方法，其特征在于：纳米微球的直径为150～350nm，球形度良好，且单分散指数小于0.08。

8.根据权利要求1所述的大面积制备方法，其特征在于：所述外力诱导方式为丝棒、刮刀、磁棒、玻棒刮涂剪切中的一种。

9.根据权利要求1所述的大面积制备方法，其特征在于：S1中，特种高分子聚合物涂覆方式为直接刮涂法和膜转移法中的一种；直接刮涂法时，成膜条件为：温度80-140℃，时间1-5min；膜转移法时，成膜条件为：温度80-120℃，时间10-90s。

10.根据权利要求1所述的大面积制备方法，其特征在于：所述纺织基材选为棉织物、涤纶织物、真丝织物、涤棉混纺织物、涤氨混纺织物等织物中的一种。