[发明专利]一种可变磁轨式装置、真空镀膜设备和真空镀膜方法在审
| 申请号： | 202111433035.0 | 申请日： | 2021-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN114086140A | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 周敏;曹时义;王俊锋 | 申请（专利权）人： | 广东鼎泰高科技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吴萌 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市厚*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可变磁轨式装置、真空镀膜设备和真空镀膜方法，属于真空镀膜技术领域。可变磁轨式装置包括靶材、电磁线圈组和电源模块，靶材包括待烧蚀面；电磁线圈组设置于所述靶材远离所述待烧蚀面的一侧，通过调节电磁线圈的电流参数，使电磁线圈组相互耦合产生磁拱来回移动的磁场，从而控制弧斑在待烧蚀面上来回移动，产生扫描的移动效果。增加弧斑的烧蚀面积，提高靶材利用率，避免热量集中，减少烧蚀过程中产生的液滴，提高涂层性能。在磁拱移动的过程中，磁场强度可以做到几乎不变，确保了溅镀的工艺参数的稳定性，有助于提高工艺稳定性；另外，磁场发生装置结构简单耐用，避免了复杂的机械运动结构长期使用时容易出现损坏的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可变 磁轨 装置 真空镀膜 设备 方法 | ||
【主权项】：
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