[发明专利]一种可变磁轨式装置、真空镀膜设备和真空镀膜方法

权利要求书

1.一种可变磁轨式装置，其特征在于，包括：

靶材(1)，包括待烧蚀面(11)；

电磁线圈组(2)，设置于所述靶材(1)远离所述待烧蚀面(11)的一侧，所述电磁线圈组(2)能够在所述待烧蚀面(11)上耦合产生磁场，所述磁场用于控制弧斑(4)落在所述待烧蚀面(11)上的位置；

电源模块(26)，与所述电磁线圈组(2)连接，用于为所述电磁线圈组(2)供电，通过调节所述电磁线圈组(2)的电流参数，使所述电磁线圈组(2)相互耦合产生磁拱(3)来回移动的磁场，从而控制弧斑(4)在所述待烧蚀面(11)上来回移动。

2.根据权利要求1所述的可变磁轨式装置，其特征在于，所述靶材(1)为矩形结构，所述待烧蚀面(11)设置于所述靶材(1)的顶部，所述电磁线圈组(2)包括第一条形电磁线圈(21)和第二条形电磁线圈(22)，所述第一条形电磁线圈(21)沿所述靶材(1)短边的方向延伸且位于所述靶材(1)两侧的短边处，至少两个所述第二条形电磁线圈(22)设置于所述靶材(1)的底部且沿所述靶材(1)长边的方向延伸。

3.根据权利要求2所述的可变磁轨式装置，其特征在于，所述电磁线圈组(2)还包括第一铁芯(23)，所述第一条形电磁线圈(21)内部插设有所述第一铁芯(23)。

4.根据权利要求2所述的可变磁轨式装置，其特征在于，所述电磁线圈组(2)还包括第二铁芯(24)，所述第二条形电磁线圈(22)内部插设有所述第二铁芯(24)。

5.根据权利要求2所述的可变磁轨式装置，其特征在于，所述电磁线圈组(2)还包括导磁板(25)，所述导磁板(25)设置于所述第二条形电磁线圈(22)远离所述靶材(1)的一侧。

6.根据权利要求2所述的可变磁轨式装置，其特征在于，所述电源模块(26)分别单独控制流经每个所述第一条形电磁线圈(21)和每个所述第二条形电磁线圈(22)的电流参数。

7.根据权利要求6所述的可变磁轨式装置，其特征在于，所述电流参数包括电流的大小、方向和频率。

8.根据权利要求2-7任一项所述的可变磁轨式装置，其特征在于，所述第二条形电磁线圈(22)设置有五个，五个所述第二条形电磁线圈(22)均间隔设置于所述靶材(1)的底部。

9.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的可变磁轨式装置。

10.一种真空镀膜方法，其特征在于，采用如权利要求9所述的真空镀膜设备进行镀膜，包括以下步骤：

将靶材(1)放置在电磁线圈组(2)的上方；

调节流过第一条形电磁线圈(21)的电流产生第一设定磁场；

调节流过第二条形电磁线圈(22)的电流产生第二设定磁场；

所述第一设定磁场和所述第二设定磁场在所述靶材(1)的待烧蚀面(11)上耦合产生磁拱(3)，所述磁拱(3)控制弧斑(4)在所述靶材(1)上来回移动。