[发明专利]KrF负性光刻胶及其制备方法、应用在审
| 申请号： | 202111417731.2 | 申请日： | 2021-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN113960881A | 公开（公告）日： | 2022-01-21 |
| 发明（设计）人： | 周元基 | 申请（专利权）人： | 潍坊星泰克微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 张金铭 |
| 地址： | 261000 山东省潍坊市高新技术开*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种KrF负性光刻胶及其制备方法、应用，涉及光刻胶制备的技术领域，包括如下组分：聚对羟基苯乙烯共聚物、酸性催化剂、光致去活剂以及任选的溶剂，其中，聚对羟基苯乙烯共聚物包括含保护基团的聚对羟基苯乙烯共聚物，光致去活剂包括阴离子引发剂。本发明的KrF负性光刻胶，其在非曝光区时，酸性催化剂催化聚对羟基苯乙烯共聚物的保护基团脱落，而在曝光区经248nm波长紫外光曝光后，阴离子引发剂产生的化合物会使酸性催化剂失活，不再催化去保护基团。本发明解决了聚对羟基苯乙烯树脂在交联后难以湿法去胶的技术问题，达到了可以采用湿法去胶，通过常温浸泡即可将光刻胶去除干净的技术效果。 | ||
| 搜索关键词： | krf 光刻 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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