[发明专利]一种基于有源大电容的二次电流纹波抑制方法在审
| 申请号： | 202111372192.5 | 申请日： | 2021-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN114142453A | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 何良宗;张靖雨;林智乐 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | H02J1/02 | 分类号： | H02J1/02;H02J1/00;H02J1/06 |
| 代理公司： | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人： | 张迪;吴晓梅 |
| 地址： | 361000 *** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明公开了一种基于有源大电容的二次电流纹波抑制方法，它包括纹波抑制电路，该纹波抑制电路包括能相串联工作的有源大电容C |
||
| 搜索关键词： | 一种 基于 有源 电容 二次 电流 抑制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门大学，未经厦门大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111372192.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
