[发明专利]一种评价分散蓝S-GL氰化中间体中氰根离子残余的方法在审
| 申请号： | 202111370544.3 | 申请日： | 2021-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN114088835A | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 孙岩峰;商李金;汪雪松;陈美芬 | 申请（专利权）人： | 杭州吉华江东化工有限公司 |
| 主分类号： | G01N30/02 | 分类号： | G01N30/02;G01N30/06;G01N30/86;G01N21/78 |
| 代理公司： | 杭州裕阳联合专利代理有限公司 33289 | 代理人： | 张解翠 |
| 地址： | 311200 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种评价分散蓝S‑GL氰化中间体中氰根离子残余的方法，所述方法基于离子色谱法，利用硫代硫酸根离子与氰根离子的反应，通过检测硫代硫酸根离子浓度来间接评价氰根离子残余情况，结合氰根离子试纸检测法，判断反应趋势，在反应趋势正常的情况下再检测硫代硫酸根离子的浓度，评价氰根离子是否残余。本发明的方法，操作简单、安全性高，显著排除各种物质的干扰，可有效评价分散蓝S‑GL氰化中间体中氰根离子残余的情况，能够准确控制硫代硫酸钠的投入量，减少固废，节约成本，节能环保，具有重大实用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 评价 分散 gl 氰化 中间体 中氰根 离子 残余 方法 | ||
【主权项】：
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