[发明专利]一种耐腐蚀除污镀层的制备方法有效

专利信息
申请号: 202111366583.6 申请日: 2021-11-18
公开(公告)号: CN113897645B 公开(公告)日: 2023-05-19
发明(设计)人: 李忠盛;彭冬;丛大龙;张敏;黄安畏;宋凯强;王旋;白懿心;丁星星;杨昕睿 申请(专利权)人: 中国兵器工业第五九研究所
主分类号: C25D3/66 分类号: C25D3/66;C25D15/00
代理公司: 重庆晶智汇知识产权代理事务所(普通合伙) 50229 代理人: 李靖
地址: 400039 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 一种耐腐蚀除污镀层的制备方法,在AlCl3和氯化正丁基吡啶(BPC)组成的离子液体中加入g‑C3N4纳米片和无水乙醇,然后加入Ti或Zn的氯化盐形成电镀液,然后在电镀液中加入Al单质,静置5~8h,去除Al单质后在惰性气氛下在基体表面进行电镀沉积制备Al‑Ti‑g‑C3N4或Al‑Zn‑g‑C3N4镀层。本发明制备的Al‑Ti‑g‑C3N4或Al‑Zn‑g‑C3N4镀层表面光滑,结构致密,镀层中合金晶粒形貌均匀,尺寸小至30~100nm,在800℃高温下腐蚀速度为1.29~1.73×10‑6,在8%质量浓度的NaCl溶液中的腐蚀速率为1.08~1.36×10‑5,在400℃,10%SO2氛围中腐蚀速率为1.04~1.22×10‑6,具有优异的耐腐蚀性能,同时还具有光催化降解有机物的优异效果,180min下对RhB的降解率达到82.7%。
搜索关键词: 一种 腐蚀 镀层 制备 方法
【主权项】:
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