[发明专利]一种耐腐蚀除污镀层的制备方法有效
申请号: | 202111366583.6 | 申请日: | 2021-11-18 |
公开(公告)号: | CN113897645B | 公开(公告)日: | 2023-05-19 |
发明(设计)人: | 李忠盛;彭冬;丛大龙;张敏;黄安畏;宋凯强;王旋;白懿心;丁星星;杨昕睿 | 申请(专利权)人: | 中国兵器工业第五九研究所 |
主分类号: | C25D3/66 | 分类号: | C25D3/66;C25D15/00 |
代理公司: | 重庆晶智汇知识产权代理事务所(普通合伙) 50229 | 代理人: | 李靖 |
地址: | 400039 *** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 腐蚀 镀层 制备 方法 | ||
1.一种耐腐蚀除污镀层的制备方法,其特征在于:在AlCl3和氯化正丁基吡啶(BPC)组成的离子液体中加入g-C3N4纳米片和无水乙醇,然后加入Ti或Zn的氯化盐形成混合液,在混合液中加入Al单质,静置5~8h,去除Al单质得电镀液,然后在惰性气氛下在基体表面进行电镀沉积制备Al-Ti-g-C3N4或Al-Zn-g-C3N4镀层;所述Ti的氯化盐为TiCl4,锌的氯化盐为ZnCl2,其浓度为0.05~0.1mol/L;所述g-C3N4纳米片的浓度为0.2~0.5g/L;所述混合液中,BPC、无水乙醇和AlCl3摩尔比为1:5~8:1 ~2。
2. 如权利要求1所述的一种耐腐蚀除污镀层的制备方法,其特征在于:所述电镀沉积的电流密度为10~30mA /cm2,电镀温度为45~55℃,电镀液的流速为0.02~0.04m/s,沉积时间为30~60min。
3.一种耐腐蚀除污镀层的制备方法,其特征在于,按如下步骤进行:
电镀液制备:
(1)在氯化正丁基吡啶(BPC)中加入AlCl3,然后依次加入g-C3N4纳米片和无水乙醇,混合均匀后加入TiCl4或ZnCl2形成混合液,BPC、无水乙醇和AlCl3的摩尔比为1:5~8:1.5~2,加入的g-C3N4纳米片浓度为0.2~0.5g/L,TiCl4或ZnCl2的浓度为0.05~0.1mol/L;
(2)在混合液中加入单质Al,搅拌后静置5~8h,然后去除单质Al;
电镀沉积:
(1)采用60目砂纸对基体进行打磨,然后清洗,并进行烘干;
(2)在惰性气体氛围下,以高纯铝板为阳极,电镀沉积的基体为阴极,采用上述电镀液在基体表面进行电镀沉积Al-Ti-g-C3N4或Al-Zn-g-C3N4镀层,电镀液的流速为0.02~0.04m/s,电镀温度为45~55℃,沉积电流密度为10~30 mA /cm2,沉积时间为30~60min,所述基体可为不锈钢、铜合金或镁合金。
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