[发明专利]光阻层的加工方法、显示面板的制作方法以及显示面板有效
| 申请号： | 202111350222.2 | 申请日： | 2021-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN114122090B | 公开（公告）日： | 2023-08-01 |
| 发明（设计）人： | 陈建荣 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H10K59/123 | 分类号： | H10K59/123;H10K59/122;H10K59/121;H10K59/131;H10K71/00 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 黄锐 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请实施例公开了一种光阻层的加工方法、显示面板的制作方法以及显示面板，通过对负性光阻层的第一曝光区域进行第一次曝光处理；对负性光阻层的第二曝光区域进行第二次曝光处理，第二曝光区域至少具有设于第一曝光区域的一侧且与第一曝光区域连接的部分，第一次曝光处理的曝光量大于第二次曝光处理的曝光量；对负性光阻层进行显影处理，去除未进行光反应的负性光阻层；对剩余的负性光阻层进行加热固化处理，得到底切结构。本申请通过对负性光阻层进行两次曝光处理和一次显影处理，即可制得底切结构，有效简化了底切结构的制作工艺，从而提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光阻层 加工 方法 显示 面板 制作方法 以及 | ||
【主权项】：
暂无信息
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