[发明专利]发光装置在审

专利信息
申请号: 202111305371.7 申请日: 2021-11-05
公开(公告)号: CN114050175A 公开(公告)日: 2022-02-15
发明(设计)人: 赖柏君;施立伟 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;G09G3/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种发光装置,包括第一基板、第一主动元件、阻障层、第一感光元件、平坦层以及第一发光二极管。第一主动元件位于第一基板上。阻障层位于第一主动元件上。第一感光元件位于阻障层上。平坦层位于第一感光元件上,且第一感光元件位于阻障层与平坦层之间。第一发光二极管位于平坦层上。第一发光二极管包括第一电极、发光层以及第二电极。第一电极电连接至第一主动元件。第一感光元件在第一基板的法线方向上不被第一电极完全遮蔽。发光层位于第一电极上。第二电极位于发光层上。
搜索关键词: 发光 装置
【主权项】:
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