[发明专利]一种低温面源黑体的均温结构及其制造方法在审
| 申请号： | 202111286446.1 | 申请日： | 2021-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN113820021A | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 郝小鹏;司马瑞衡;宋健 | 申请（专利权）人： | 中国计量科学研究院 |
| 主分类号： | G01J5/02 | 分类号： | G01J5/02;G01J5/52 |
| 代理公司： | 北京君琅知识产权代理有限公司 16017 | 代理人： | 周燕 |
| 地址： | 100013 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种低温面源黑体的均温结构及其制造方法，其包括：冷源连接部分，所述冷源连接部分与冷源进行连接；混热板，所述冷源连接部分设置在混热板上，从所述冷源连接部分传导过来的能量在混热板中进行传导并分布；在所述混热板远离所述冷源连接部分的一侧设置有冷量分配器，所述冷量分配器上具备环形凹槽。本发明具有更佳的温度场分布：通过均温体内的冷量分配器对冷量进行调控，使黑体辐射板受热更均匀，并可通过热量补偿抵消边界换热的影响；降低了对混热结构的需求，有效降低了均温体的重量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低温 黑体 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国计量科学研究院，未经中国计量科学研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111286446.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
