[发明专利]一种采用包埋渗硅工艺制备2:17型钐钴永磁高温抗氧化涂层的方法在审

专利信息
申请号: 202111283256.4 申请日: 2021-11-01
公开(公告)号: CN114000101A 公开(公告)日: 2022-02-01
发明(设计)人: 王慧;杜康哲;徐昊;刘敬华;蒋成保 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: C23C10/44 分类号: C23C10/44;C23C10/02;C23C10/60;C22F1/02;C22F1/10;C22C19/07
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 李晓莉;邓治平
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种采用包埋渗硅工艺制备2:17型钐钴永磁高温抗氧化涂层的方法,所述包埋渗所用渗剂为硅粉、催化剂为氟化钠、填充剂为氧化物,高温抗氧化涂层结构由外到内分别为渗Si层、内部氧化层、基体。本发明通过调整包埋渗填充剂的种类和粒径调控渗Si层和内部氧化层厚度,开发出抗氧化性能良好、磁性能损失小的包埋渗Si工艺,所制备渗Si磁体与原始磁体相比磁性能下降很小,500℃条件下在空气中氧化500小时,磁性能基本不变。
搜索关键词: 一种 采用 包埋 工艺 制备 17 型钐钴 永磁 高温 氧化 涂层 方法
【主权项】:
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