[发明专利]BaF2在审

专利信息
申请号: 202111280911.0 申请日: 2021-11-01
公开(公告)号: CN113866852A 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: 彭浪;杨伟声;张友良;董力;邓苑;李刚;谢海 申请(专利权)人: 云南北方光学科技有限公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115;G02B1/14;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/18;C23C14/32
代理公司: 成都市鼎宏恒业知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51248 代理人: 马汶绢
地址: 650000 云南省昆明市中国(云南)*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开了BaF2基底3.7‑4.8μm7.7‑9.5μm双波段减反射膜及其制备方法,所述减反射膜包括基底层,所述基底层上依次设置有Y2O3层、ZnSe层、YbF3层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、YbF3层、ZnSe层、Ge层、ZnSe层、YbF3层、ZnS层。本发明在实际应用中,可以有效解决BaF2材料光学零件容易脱膜的难题,能够有效提升减反膜的膜层牢固性和3.7‑4.8μm7.7‑9.5μm波段内光谱透过率。
搜索关键词: baf base sub
【主权项】:
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