[发明专利]一种用于分子束外延均匀加热的系统及加热方法有效
| 申请号： | 202111269150.9 | 申请日： | 2021-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN114000191B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 方海生;安巧如;刘胜 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | C30B23/06 | 分类号： | C30B23/06 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 夏倩 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于分子束外延均匀加热的系统及加热方法，属于晶体薄膜外延生长技术领域，包括样品台、加热组件和隔热组件；样品台内部设有隔热组件，其底部用于放置衬底基片；加热组件包括电机、加热器支架和红外线辐射加热器；加热器支架的一端与所述电机的输出轴相连，其另一端依次穿过样品台、隔热组件后与红外线辐射加热器相连；电机用于驱动加热器支架旋转从而带动红外线辐射加热器转动以对位于样品台底部的衬底基片的一面加热。本发明通过驱动加热器支架旋转带动红外线辐射加热器转动，在沉积过程中可以使衬底温度保持均匀稳定，操作简单，普适性广，加热均匀性高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 分子 外延 均匀 加热 系统 方法 | ||
【主权项】：
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