[发明专利]一种带隙可调的非晶碳薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111267283.2 申请日: 2021-10-29
公开(公告)号: CN113969393A 公开(公告)日: 2022-01-25
发明(设计)人: 王岩;徐鹏飞;罗帅;季海铭 申请(专利权)人: 江苏华兴激光科技有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/35
代理公司: 武汉江楚智汇知识产权代理事务所(普通合伙) 42228 代理人: 邓寅杰
地址: 221300 江苏省徐州市邳*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种带隙可调的非晶碳薄膜及其制备方法,在磁控溅射设备上,以透明玻璃为衬底,使用纯度99.999%的石墨盘作为磁控溅射靶材,衬底与靶材之间的距离为75mm;对衬底进行预加热,预加热温度为200℃;溅射系统腔室抽真空,真空度为10‑5 Pa量级;通入氩气至腔室内作为等离子体的反应气体,氩气的流量为1.7 sccm;通入正丁烷作为磁控溅射过程中的反应源气体,正丁烷通入腔室的流量为9‑10 sccm;开启射频电源,调节腔室内压强为0.7 Pa,调节射频电源的功率为30‑200W,实现辉光放电,进行非晶碳薄膜沉积,得到带隙不同的非晶碳薄膜。本发明采用气体源+固体源的方法制备非晶碳薄膜,成膜速度快,薄膜的平整度高,制备的非晶碳薄膜可作为光伏电池吸收层材料应用。
搜索关键词: 一种 可调 非晶碳 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏华兴激光科技有限公司,未经江苏华兴激光科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111267283.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top