[发明专利]托卡马克第一壁材料激光刻蚀系统及刻蚀深度标定方法有效
| 申请号： | 202111243834.1 | 申请日： | 2021-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN113983948B | 公开（公告）日： | 2023-08-18 |
| 发明（设计）人： | 邱长军;陈勇;贺阳;龙海川;刘豪;李育森;邓新 | 申请（专利权）人： | 南华大学 |
| 主分类号： | G01B11/22 | 分类号： | G01B11/22 |
| 代理公司： | 衡阳市科航专利事务所(普通合伙) 43101 | 代理人： | 刘政旺 |
| 地址： | 421001 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： |
托卡马克第一壁材料激光刻蚀系统及刻蚀深度标定方法，涉及核聚变装置技术领域。托卡马克第一壁材料激光刻蚀系统，包括真空装置、刻蚀装置和观测装置；真空装置包括真空气氛腔室、真空泵组和真空规；刻蚀装置包括刻蚀平台、光纤激光器和主控电脑。托卡马克第一壁材料刻蚀深度标定方法，步骤如下：预处理；离子注入；获取烧蚀前的 |
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| 搜索关键词： | 马克 第一 材料 激光 刻蚀 系统 深度 标定 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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