[发明专利]一种牌号为MP-7的高强度耐氢脆膜片及制备方法有效
申请号: | 202111221854.9 | 申请日: | 2021-10-20 |
公开(公告)号: | CN114032477B | 公开(公告)日: | 2023-03-17 |
发明(设计)人: | 赵明久;刘家兴;姜海昌;戎利建 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C22C38/54 | 分类号: | C22C38/54;C22C38/50;C22C38/46;C22C38/44;C22C33/06;C22C30/00;C22C1/03;C21D8/02;C22F1/16;C21C7/04;C21C7/064;C22B9/00 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明涉及氢能装备关键材料部件领域,具体地说是一种牌号为MP‑7的高强度耐氢脆膜片及制备方法。按重量百分计,合金化学成分为,Ni:29.50~31.50,Cr:14.00~16.00,Mo:0.90~1.50,V:0.10~0.40,Ti:1.80~2.40,Al:0.60~0.80,B:0.001~0.0030,Fe:余量。本发明基于纳米尺寸γ′‑Ni |
||
搜索关键词: | 一种 牌号 mp 强度 耐氢脆 膜片 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属研究所,未经中国科学院金属研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111221854.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。