[发明专利]一种用于溅射涂层的多角度旋转平台及磁控溅射装置在审
| 申请号： | 202111218923.0 | 申请日： | 2021-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN113913767A | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 王伟;李宇晗;桓茜 | 申请（专利权）人： | 陕西工业职业技术学院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 | 代理人： | 李瑞雨 |
| 地址： | 712000 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于溅射涂层的多角度旋转平台及磁控溅射装置，包括第一外壳；第一外壳内安装有第一旋转组件；第一外壳顶部固定安装有第一中心齿轮；第一中心齿轮通过第一中心轴安装在磁控溅射装置内，且第一中心齿轮绕第一中心轴自转；第二外壳内安装有第二旋转组件；第二外壳顶部与第一外壳固定连接；第一旋转组件与第二旋转组件转动连接；旋转臂组件与第二旋转组件转动连接；且旋转臂组件两端还与第二外壳两端通过固定件固定连接；旋转臂组件底端与样品台同轴连接。本发明通过第一旋转组件，第二旋转组件和旋转臂组件的相互配合实现样品台各个角度的调节旋转，够实现样品物料不同掠射角的均匀溅射镀膜，得到所需的各向异性薄膜结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 溅射 涂层 角度 旋转 平台 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
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