[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202111214062.9 | 申请日： | 2021-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN114496696A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 小舩贵基 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种等离子体处理装置。使腔室的内壁的温度均匀性提高。提供一种该等离子体处理装置，其中，该等离子体处理装置包括：圆筒状的腔室，其形成对基板进行处理的处理空间；以及构件，其构成所述腔室的外周，所述构件具有：流路的入口，其至少为一个，供传热介质流入；流路的出口，其至少为一个，供传热介质流出；流路，其至少为一个，将所述入口和所述出口连接，供传热介质流动；以及折返部，其至少为一个，形成于所述流路，所述入口和所述出口靠近地配置，所述流路沿所述构件的圆周方向以360°以内的特定的角度形成。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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