[发明专利]一种基于二次外延的InAlAs雪崩光电探测器的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111203804.8 申请日: 2021-10-15
公开(公告)号: CN114093981A 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 杨志茂;王斌 申请(专利权)人: 北京英孚瑞半导体科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/107
代理公司: 天津创智睿诚知识产权代理有限公司 12251 代理人: 王海滨
地址: 100017 北京市西城*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于二次外延的InAlAs雪崩光电探测器的制备方法,在衬底上依次生长缓冲层、吸收层、带宽渐变层、电荷控制层、倍增层、腐蚀截止层和盖层;然后腐蚀盖层,形成中央集电区和环绕中央集电区的电场保护环,腐蚀停止在腐蚀截止层的上表面;然后在被腐蚀区域二次外延生成InP阻隔层,然后在电场保护环外围的InP阻隔层之上形成一圈环形的SiO2隔离层,之后积光学减反膜,并在n型InP中央集电区上方的光学减反膜上开出金属接触窗口;之后利用光刻胶形成上电极和金属打线板,上电极通过金属接触窗口与中央集电区接触,上电极上具有一光学入射窗口,光学入射窗口在中央集电区的上方。
搜索关键词: 一种 基于 二次 外延 inalas 雪崩 光电 探测器 制备 方法
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