[发明专利]一种高稳定性多值勃姆石基忆阻器及其制备方法在审
申请号: | 202111201084.1 | 申请日: | 2021-10-15 |
公开(公告)号: | CN113948638A | 公开(公告)日: | 2022-01-18 |
发明(设计)人: | 岳建岭;陈晓平;胡海龙;黄小忠 | 申请(专利权)人: | 中南大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 长沙瀚顿知识产权代理事务所(普通合伙) 43223 | 代理人: | 吴亮;朱敏 |
地址: | 410083 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明提供一种高稳定性多值勃姆石基忆阻器,包括底电极、涂覆于所述底电极表面的存储介质层、沉积于所述存储介质层表面的顶电极;其中,所述底电极通过在衬底上沉积导电膜层制备得到;所述存储介质层为勃姆石薄膜层;所述顶电极为沉积于所述储存介质层表面的金属薄膜电极。本发明的高稳定性多值勃姆石基忆阻器,有多值存储特性,稳定性高,其中的存储介质层具有优异的生物相容性,在可植入生物忆阻器领域具有重要应用。本发明还提供一种高稳定性多值勃姆石基忆阻器的制备方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 稳定性 多值勃姆石基忆阻器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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