[发明专利]一种用于制备ArF干法光刻的树脂的制备方法在审
| 申请号： | 202111188976.2 | 申请日： | 2021-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN115960299A | 公开（公告）日： | 2023-04-14 |
| 发明（设计）人： | 王溯;方书农;徐森;林逸鸣 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司;上海芯刻微材料技术有限责任公司 |
| 主分类号： | C08F220/18 | 分类号： | C08F220/18;C08F222/20;C08F232/08;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 马续红;陈卓 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种用于制备ArF干法光刻的树脂的制备方法。该制备方法包括以下步骤：将以重量份计的40‑50份的单体A、以重量份计的0.5‑5份的单体B、以重量份计的0.25‑2.5份的单体C和以重量份计的0.25‑2.5份的单体D在有机溶剂中进行聚合反应，得到所述的树脂。含有本发明的树脂的光刻胶具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点。 |
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| 搜索关键词： | 一种 用于 制备 arf 光刻 树脂 方法 | ||
【主权项】：
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