[发明专利]X射线自成像几何标定方法及装置在审

专利信息
申请号: 202111177904.8 申请日: 2021-10-09
公开(公告)号: CN113892960A 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 张丽;邢宇翔;陈志强;高河伟;邓智 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 尚伟净
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请提出一种X射线自成像几何标定方法及装置,方法包括:在待成像目标物从多个角度接受X射线扫描的同时,确定至少一个标识在多个角度下的投影位置;根据至少一个标识在多个角度下的投影位置计算多个角度下X射线源、探测器和至少一个标识的位置;根据多个角度下X射线源、探测器和至少一个标识的位置进行X射线自成像几何标定。本申请的实施例通过在被成像目标物表面固定标识的方式,直接由标识上的标识参考点在所有X射线投影位置实现光源、探测器和被成像物体三者之间关系的自成像几何标定方法,不需要额外的视觉标定系统,大幅简化了标定的流程和操作复杂度,还可以同时标定光源和探测器相对位置,校正由于系统自身偏移造成的重建偏差。
搜索关键词: 射线 成像 几何 标定 方法 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学,未经清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111177904.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top