[发明专利]X射线自成像几何标定方法及装置在审
申请号: | 202111177904.8 | 申请日: | 2021-10-09 |
公开(公告)号: | CN113892960A | 公开(公告)日: | 2022-01-07 |
发明(设计)人: | 张丽;邢宇翔;陈志强;高河伟;邓智 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 尚伟净 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请提出一种X射线自成像几何标定方法及装置,方法包括:在待成像目标物从多个角度接受X射线扫描的同时,确定至少一个标识在多个角度下的投影位置;根据至少一个标识在多个角度下的投影位置计算多个角度下X射线源、探测器和至少一个标识的位置;根据多个角度下X射线源、探测器和至少一个标识的位置进行X射线自成像几何标定。本申请的实施例通过在被成像目标物表面固定标识的方式,直接由标识上的标识参考点在所有X射线投影位置实现光源、探测器和被成像物体三者之间关系的自成像几何标定方法,不需要额外的视觉标定系统,大幅简化了标定的流程和操作复杂度,还可以同时标定光源和探测器相对位置,校正由于系统自身偏移造成的重建偏差。 | ||
搜索关键词: | 射线 成像 几何 标定 方法 装置 | ||
【主权项】:
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