[发明专利]原子自组装多元涂层的设计制备方法有效

专利信息
申请号: 202111175756.6 申请日: 2021-10-09
公开(公告)号: CN113987760B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 章嵩;涂溶;王传彬;张联盟;沈强;李志荣;李迎春 申请(专利权)人: 武汉理工大学;广东汇成真空科技股份有限公司
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;C23C14/54;C23C14/06;G16C60/00
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 官群;崔友明
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种原子自组装多元涂层的设计制备方法,以单质材料作为原料,根据目标多元涂层所需要的化学组分以及结构需要,采用计算机软件模拟制备参数,然后将所得制备参数导入沉积设备的自动化工艺程序中,沉积制备得到多元涂层。本发明提供的沉积制备方法根据目标多元涂层的显微结构和成分比例,通过计算拟合得到t、f(P)和三个变量的解,根据结果设定制备参数并完成制备,能够高效精确地实现目标多元涂层的设计和制备。此外,本发明采用单质材料作为原料,单质材料能够用于不同体系的多元涂层的制备,降低靶材开发成本,同时,单质材料相比于合金材料更有利于计算拟合。本发明可实现所有涂层结构的设计以及制备,应用范围广,适用性强。
搜索关键词: 原子 组装 多元 涂层 设计 制备 方法
【主权项】:
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