[发明专利]一种含氟氧杂烷烃、包含其的用于半导体制程的冷却剂及用途在审

专利信息
申请号: 202111158212.9 申请日: 2021-09-30
公开(公告)号: CN113773177A 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 曾一铮;刘星;米欣 申请(专利权)人: 深圳市盈石科技有限公司
主分类号: C07C43/12 分类号: C07C43/12;C07C41/18;C07C41/42;C07C51/58;C07C59/135;C07D301/12;C07D303/48;C09K5/10;H01L21/67
代理公司: 北京中知星原知识产权代理事务所(普通合伙) 11868 代理人: 张文静;艾变开
地址: 518045 广东省深圳市福田区福*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种含氟氧杂烷烃、包含其的用于半导体制程的冷却剂及用途。所述用于半导体制程的冷却剂,包含5~20wt%的所述的含氟氧杂烷烃和80wt%以上的2‑氢‑全氟‑5,8,11‑三甲基‑3,6,9,12‑四氧杂十五烷,所述冷却剂的沸程为170~190℃,倾点为‑78~‑82℃,‑20℃的运动粘度12cst以下。本申请提供的含氟氧杂烷烃,适合于与沸点较高的2‑氢‑全氟‑5,8,11‑三甲基‑3,6,9,12‑四氧杂十五烷配合,在保证沸点170~190℃的前提下,增加‑20~‑30℃的冷却剂的流动性。
搜索关键词: 一种 含氟氧杂 烷烃 包含 用于 半导体 冷却剂 用途
【主权项】:
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