[发明专利]一种树脂及含其的193nm干法光刻胶在审
| 申请号： | 202111158055.1 | 申请日： | 2021-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN115873167A | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | 方书农;王溯;耿志月 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司;上海芯刻微材料技术有限责任公司 |
| 主分类号： | C08F220/18 | 分类号： | C08F220/18;C08F232/08;C08F224/00;C08F220/38;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬;陈卓 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种树脂及含其的193nm干法光刻胶。该树脂为由式(A)所示的单体、式(B)所示的单体、式(C)所示的单体和式(D)所示的单体聚合得到的共聚物；其中，以重量份数计，式(A)所示的单体的重量份数为42.5‑49.5份，式(B)所示的单体的重量份数为1‑7.5份，式(C)所示的单体的重量份数为0.25‑2.5份，式(D)所示的单体的重量份数为0.25‑2.5份。包含本发明树脂的光刻胶至少具有以下优势：感光性优异，聚焦深度好以及线宽均匀性好。 |
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| 搜索关键词： | 一种 树脂 193 nm 光刻 | ||
【主权项】：
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