[发明专利]对向靶磁控溅射无损伤薄膜沉积系统在审
| 申请号： | 202111157623.6 | 申请日： | 2021-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN113913775A | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 黄仕华;李林华;郝亚非 | 申请（专利权）人： | 浙江师范大学 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35;C23C14/08 |
| 代理公司： | 杭州之江专利事务所(普通合伙) 33216 | 代理人： | 朱枫 |
| 地址： | 321004 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种对向靶磁控溅射无损伤薄膜沉积系统，包括衬底和两个对向靶，两个对向靶对称布置于衬底前方，并分别与衬底形成正、负25 |
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| 搜索关键词： | 磁控溅射 损伤 薄膜 沉积 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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