[发明专利]无定形红外膜系结构及其制备方法有效
| 申请号： | 202111138496.5 | 申请日： | 2021-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN113917573B | 公开（公告）日： | 2023-08-04 |
| 发明（设计）人： | 金扬利;陈玮;周鹏;刘永华;祖成奎;范桃桃;高帅;谭玉蔚 | 申请（专利权）人： | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;G02B1/10;G02B1/11;G02B1/14;C23C14/10;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/30;C23C14/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 张晓萍;刘铁生 |
| 地址： | 100024*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明是关于无定形红外膜系结构及其制备方法，该无定形红外膜系结构包括红外基体和层叠设置在所述的红外基体上的硫系玻璃膜层和Ge膜层，所述的硫系玻璃膜层为无定形结构，所述的Ge膜层为无定形结构。本发明的红外膜的膜层沉积方式主要为电子束蒸发法、磁控溅射法和离子束溅射法等。所述的红外膜由硫系玻璃膜层和Ge膜层组成，都是具有无定型结构的薄膜；在硫系玻璃、Ge、Si、ZnS、ZnSe、MgF |
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| 搜索关键词： | 无定形 红外 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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