[发明专利]提高IGBT退饱和保护精度电路、方法、介质及电子设备在审

专利信息
申请号: 202111129507.3 申请日: 2021-09-26
公开(公告)号: CN113922649A 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 易平森 申请(专利权)人: 智新控制系统有限公司
主分类号: H02M1/32 分类号: H02M1/32;H02M1/08
代理公司: 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 代理人: 韩梦晴
地址: 430000 湖北省武汉市武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请涉及一种提高IGBT退饱和保护精度电路、方法、介质及电子设备,该高IGBT退饱和保护精度包括驱动电路模块、防反灌电路模块、IGBT电路模块及电源电路模块;驱动电路模块用于输出第一电流;防反灌电路模块的一端与驱动电路模块的一端电连接;IGBT电路模块的一端与防反灌电路模块的另一端电连接,另一端与驱动电路模块的另一端电连接;电源电路模块设于驱动电路模块与所述IGBT电路模块之间,并与驱动电路模块、IGBT电路模块均并联连接,电源电路模块的输出端与防反灌电路模块的一端电连接;通过增加电源电路,使IGBT电路模块的两端饱和压降与驱动电路模块的阈值电压的电压误差在可控范围内,使IGBT电路模块的两端饱和压降的精度大大提高。
搜索关键词: 提高 igbt 饱和 保护 精度 电路 方法 介质 电子设备
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于智新控制系统有限公司,未经智新控制系统有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111129507.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top