[发明专利]一种高性能介孔减反射纳米薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202111125468.X | 申请日： | 2021-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN115872629A | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | 刘俊成;董北平;王珮 | 申请（专利权）人： | 天津工业大学 |
| 主分类号： | C03C17/25 | 分类号： | C03C17/25 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300387 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高性能介孔减反射纳米薄膜及其制备方法。所述薄膜附着在玻璃等透明基底上，其特征在于该薄膜由SiO2纳米颗粒组成，纳米颗粒之间相互搭配成孔洞或孔隙，从基底到表面孔隙率逐渐增大；其特征还在于薄膜附着在光伏玻璃表面可提高380‑1100nm透过率4‑6个百分点，铅笔硬度(GB/T1727‑92)9H以上，附着力达到0级(GB/T 1727‑1992)以上。其制备方法特征在于，制备薄膜的溶胶‑凝胶过程中采用聚乙二醇单甲醚类物质为致孔剂。所述方法的特征还在于，溶胶‑凝胶制备过程中的陈化时间可以缩短至数分钟。本发明所述薄膜及制备方法工艺简便、低成本、环境友好、适合于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 性能 介孔减 反射 纳米 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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