[发明专利]反应槽及湿制程设备在审
| 申请号： | 202111120987.7 | 申请日： | 2021-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN113814230A | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 贺晖 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 唐秀萍 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种反应槽及湿制程设备。所述反应槽包括槽体、盖板以及供气装置。所述盖板设于所述槽体的槽口处。所述盖板为中空结构，其内部具有一气腔。所述盖板朝向所述槽体的一表面上设有若干出气孔，所述出气孔连通所述气腔。所述供气装置与所述气腔连通，用以向所述气腔中输送气体。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 湿制程 设备 | ||
【主权项】：
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