[发明专利]反应槽及湿制程设备

说明书

本发明提供了一种反应槽及湿制程设备。所述反应槽包括槽体、盖板以及供气装置。所述盖板设于所述槽体的槽口处。所述盖板为中空结构，其内部具有一气腔。所述盖板朝向所述槽体的一表面上设有若干出气孔，所述出气孔连通所述气腔。所述供气装置与所述气腔连通，用以向所述气腔中输送气体。

技术领域

本发明涉及面板制造领域，特别是一种反应槽及湿制程设备。

背景技术

在显示屏的制作过程，通常是在不同的反应槽中通过显影药液、刻蚀药液等具有不同功能的药液对基板上的特定膜层进行显影、刻蚀等操作。在湿刻过程中，随着药液挥发而形成的蒸汽逐渐附着在反应槽的盖板上形成水珠，水珠不断聚集后滴掉落至槽内的基板上，导致膜层的显影或刻蚀的不均匀。另外随工作时间延长，槽盖板表面会聚集大量的颗粒脏污，也会随着水珠掉落面板上，影响产品良率。

发明内容

本发明的目的是提供一种反应槽及湿制程设备，以解决现有设备中反应槽的盖板表面聚集的水珠以及颗粒脏污掉落至基板上后，导致基板显影或刻蚀的不均匀，降低了产品良率的问题。

为实现上述目的，本发明提供一种反应槽，所述反应槽包括槽体、盖板以及供气装置。所述槽体具有一反应腔以及一槽口。所述盖板设于所述槽口处，所述盖板为中空结构，其内部具有一气腔。所述盖板朝向所述槽体的一表面上设有若干出气孔，所述出气孔连通所述气腔。所述供气装置与所述气腔连通，用于向所述气腔中输送气体。

进一步地，所述出气孔的分布密度大于30个/cm²，并小于1000个/cm²。

进一步地，所述出气孔的孔径小于1毫米。

进一步地，当所述反应槽工作时，所述供气装置向所述气腔中输送气体，并使所述反应腔内的气压小于所述气腔内的气压。

进一步地，所述气体为压缩干燥空气或惰性气体。

进一步地，所述盖板包括底板、顶板以及侧板。所述出气孔贯穿所述底板。所述顶板与所述底板相对设置。所述侧板设于所述底板与所述顶板之间，并与所述底板和所述顶板的边缘连接，以与所述底板和所述顶板共同构成所述气腔。

进一步地，所述盖板还包括进气孔，所述进气孔设于所述顶板和/或所述侧板上。所述供气装置通过所述进气孔与所述气腔连通。

进一步地，所述盖板的材料包含刚性材料或柔性材料中的至少一种。

进一步地，所述顶板和所述侧板的材料为刚性材料，所述底板的材料包含刚性材料或柔性材料中的一种。

本发明中还提供一种湿制程设备，所述湿制程设备包括如上所述的反应槽。

本发明的优点是：本发明中所提供的一种反应槽及湿制程设备，通过在中空结构的盖板上开设出气孔并输送气体，从而在所述盖板的底面上形成气膜，利用所述气膜吹走靠近所述盖板的水汽以及脏污颗粒，减少水珠的凝结以及脏污颗粒的附着，从而防止水珠和脏污颗粒在盖板上凝结聚集后滴落而导致基板显影或刻蚀的不均匀，进而提高产品良率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例中反应槽的立体结构示意图；

图2为本发明实施例中盖板的剖面结构示意图；

图3为本发明实施例中底板的平面结构示意图。

图中部件表示如下：

反应槽1； 槽体10；