[发明专利]一种ITO陶瓷靶材的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111111721.6 申请日: 2021-09-23
公开(公告)号: CN113735568A 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 王永超;赵泽良;贾时君;尤青文 申请(专利权)人: 南宁西桂微电子有限公司
主分类号: C04B35/01 分类号: C04B35/01;C04B35/622;C04B35/626;C04B35/645;C23C14/34;B28B3/00;B28B3/02
代理公司: 郑州浩翔专利代理事务所(特殊普通合伙) 41149 代理人: 边延松
地址: 530000 广西壮族自*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明提供了一种ITO陶瓷靶材的制备方法,包括以下步骤:将纯度为99.99%的In2O3粉末和SnO2粉末按质量比为(90~97):(10~3)进行湿法球磨混合,球磨过程加入少量有机添加剂,得到流动性能良好的ITO浆料;将所得的ITO浆料进行喷雾造粒,得到的球形状ITO造粒粉;将所得的ITO造粒粉进行模压成型得到形状规则的ITO素坯;之后ITO素坯进行冷等静压二次压制;将冷等静压后的ITO素坯低温脱脂去除有机添加剂;将脱脂后的ITO素坯进行热等静压烧结制备出高致密度、低电阻率的ITO靶材。热等静压处理过程中选用低碳钢作为包套,不锈钢作为隔离材料,以防包套与靶材反应,便于后期剥离。本发明有效地降低了制备ITO靶材过程中所需的烧结温度及烧结时间,解决了传统常压烧结工艺生产周期过长的问题,对于提高靶材生产效率起着至关重要的意义。
搜索关键词: 一种 ito 陶瓷 制备 方法
【主权项】:
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