[发明专利]R－T－B系烧结磁体的制造方法在审
| 申请号： | 202111097501.2 | 申请日： | 2021-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN114284053A | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 村田刚志 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | H01F41/02 | 分类号： | H01F41/02;H01F1/057 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;张岑尧 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供不需要准备不活性气氛的R－T－B系烧结磁体的制造方法。本发明的R－T－B系烧结磁体的制造方法包含：准备R－T－B系烧结磁体用合金的粉末的粉碎工序；使用上述粉末制作粉末成型体的成型工序；裁切上述粉末成型体，分割成多个成型体片的裁切工序；烧结上述多个成型体片中的每一个而制作多个烧结体的烧结工序，上述裁切工序包含：第一处理工序，利用行进的钢丝锯裁切沉入液体中的上述粉末成型体，从而形成第一切面；第二处理工序，利用与行进的上述钢丝锯相同或不同的钢丝锯裁切沉入与上述液体相同或不同的液体中的上述粉末成型体，形成相对于上述第一切面交叉的一个或多个第二切面。 | ||
| 搜索关键词： | 烧结 磁体 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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