[发明专利]一种多孔薄膜吸气剂结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111091412.7 申请日: 2021-09-17
公开(公告)号: CN113772618A 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 赵龙;杨晓杰;李海涛;姚浩强;高玉波;赵雪城 申请(专利权)人: 安徽光智科技有限公司
主分类号: B81B7/00 分类号: B81B7/00;B81B7/02;B81C1/00
代理公司: 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 代理人: 朱伟雄
地址: 239064 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了多孔薄膜吸气剂结构,包括晶圆和薄膜吸气剂,晶圆上表面具有凹槽结构,凹槽结构的内壁均为多孔结构,薄膜吸气剂覆盖多孔结构。还公开了该结构的制备方法,采用干法或湿法刻蚀联合金颗粒辅助刻蚀三维薄膜吸气剂结构,在制备的凹槽结构上制备多孔结构以增大薄膜吸气剂沉积面积及沉积体量,从而有效增加薄膜吸气剂的吸气性能和使用寿命;通过蒸镀‑剥离工艺沉积的金膜在高温快速退火的工艺条件下可在凹槽的侧壁和基底形成分布均匀的金颗粒,利用退火后的金颗粒进行刻蚀工艺,在侧壁刻蚀出均匀分布的多孔结构,进而增大吸气剂薄膜和侧壁、底部衬底的粘附性,避免发生吸气剂脱落、损坏器件等现象。
搜索关键词: 一种 多孔 薄膜 吸气 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
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