[发明专利]一种紫外光增强的复合结构光调控薄膜在审

专利信息
申请号: 202111053966.8 申请日: 2021-09-09
公开(公告)号: CN113764453A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 陶春先 申请(专利权)人: 苏州光迈科技有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L27/148;G02B5/00;G02B1/11;G02B1/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215427 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明为一种紫外光增强的复合结构光调控薄膜,可用于提高探测器在近紫外甚至真空紫外检测的响应灵敏度。设计制作的复合结构薄膜传感器,由衬底层、金属纳米粒子层、缓冲层、发光层、隔离层和减反射层组成。通过调控使纳米粒子的共振吸收波长和发光层的发射波长匹配,从而形成了较强的等离子体共振耦合电磁场,使得发光材料的辐射复合速率和激发态荧光分子的数量增加。发明的紫外光增强的复合结构光调控薄膜在120~200nm处和240~360nm处均实现了发射强度增强。此外,隔离层和减反射层在减少入射能量损耗的同时,还对发光层起到隔离水汽、减缓氧化的保护作用。
搜索关键词: 一种 紫外光 增强 复合 结构 调控 薄膜
【主权项】:
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