[发明专利]一种晶圆表面吸收式IR镀膜工艺在审
| 申请号： | 202111053917.4 | 申请日： | 2021-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN113737131A | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 李涛;尚海;刘耀菊;王刚 | 申请（专利权）人： | 杭州美迪凯光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/30;G02B1/115;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/30;G03F7/42 |
| 代理公司： | 杭州华知专利事务所(普通合伙) 33235 | 代理人： | 张德宝 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州市杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种晶圆表面吸收式IR镀膜工艺，通过本工艺得到的产品使得可见光区（400nm~700nm）呈高透，近红外区（780nm~1100nm）呈高度截止状态，在不同角度光入射时光透过偏移量小，有助于改进角度偏移难题，解决了传统镀膜制程产品容易出现的图像失真、识别速度慢等问题，比起传统镀膜工艺只能保证光在0°‑20°入射时光干扰小的窄角来讲，本工艺路线具有更优越的实用价值；晶圆表面经过电路及光路层结构加工后表面存在高度差，对旋涂要求较高，本发明工艺可较好的去除凹槽中的油墨残留，且光路层表面油墨分布较均匀，膜厚散差控制在0.2μm左右。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 吸收 ir 镀膜 工艺 | ||
【主权项】：
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