[发明专利]蚀刻装置和使用该蚀刻装置制造显示装置的方法在审
| 申请号： | 202111037766.3 | 申请日： | 2021-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN114267572A | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 金大洙;金湘甲;吕伦钟;李珠熙;赵秀范;崔大元 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 韩芳;郭文峰 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种蚀刻装置和使用该蚀刻装置制造显示装置的方法，所述蚀刻装置包括：腔室；台，设置在腔室中，并且目标基底装载在台上；气体分布单元，在腔室中设置为面对台；多个等离子体产生模块，设置在腔室上方；气体供应单元，将气体供应到腔室中；气体线路，将气体供应单元和多个等离子体产生模块连接；以及多个气体入口管，每个气体入口管包括连接到多个等离子体产生模块中的对应的等离子体产生模块的一端和连接到气体分布单元的另一端。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 装置 使用 制造 显示装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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