[发明专利]基于聚合物纳米柱阵列结构的金银合金膜SERS基底及其制备方法在审
申请号: | 202111002456.8 | 申请日: | 2021-08-30 |
公开(公告)号: | CN113715361A | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 成鸣飞;车文宽;方靖淮 | 申请(专利权)人: | 南通大学 |
主分类号: | B29C69/02 | 分类号: | B29C69/02;B29C41/12;B29C41/34;B29C59/02;C23C14/24;C23C14/20;B29L7/00 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 许洁 |
地址: | 226000*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于聚合物纳米柱阵列结构的金银合金膜SERS基底的制备方法,包括如下步骤:步骤(1)、制备PC薄膜,该膜光学透明且表面无孔洞,是制备周期性PC突起阵列结构的前提;步骤(2)、进行热压印,获得具有周期性的PC纳米柱阵列;步骤(3)、进行蒸镀,获得金@PC突起阵列结构;步骤(4)、再次蒸镀,获得银金复合膜的阵列结构的SERS基底。本发明制得的纳米结构基底,具有周期性PC突起阵列结构,且经过表面复合金属化处理,能构成多热点结构,从而为电磁场增强提供了丰富的热点类型,具有SERS灵敏度好、重复性好、稳定性强且热点面积大的优点。 | ||
搜索关键词: | 基于 聚合物 纳米 阵列 结构 金银 合金 sers 基底 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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