[发明专利]描画系统在审
| 申请号： | 202110993331.X | 申请日： | 2021-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN114253086A | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 早川直人;原望 | 申请（专利权）人： | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 宋晓宝;向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种描画系统，第一标记描画部在由第一载物台(21a)保持的基板(9)的下侧主面上描画第一定位标记。第二标记描画部在由第二载物台(21b)保持的基板(9)的下侧主面上描画第二定位标记。第二定位标记的外观与第一定位标记不同。因此，通过观察在基板(9)的另一个主面描画的定位标记，可以容易判别对基板(9)的一个主面描画图案时利用的搬运机构。由此，可以在考虑描画图案时利用的搬运机构所特有的正面和背面位置关系来调整描画位置的基础上，在基板(9)的另一个主面上描画图案。结果，可以提高在基板(9)的两侧主面上描画的图案的相对的位置精度。 | ||
| 搜索关键词： | 描画 系统 | ||
【主权项】：
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