[发明专利]描画系统

说明书

本发明提供一种描画系统，第一标记描画部在由第一载物台(21a)保持的基板(9)的下侧主面上描画第一定位标记。第二标记描画部在由第二载物台(21b)保持的基板(9)的下侧主面上描画第二定位标记。第二定位标记的外观与第一定位标记不同。因此，通过观察在基板(9)的另一个主面描画的定位标记，可以容易判别对基板(9)的一个主面描画图案时利用的搬运机构。由此，可以在考虑描画图案时利用的搬运机构所特有的正面和背面位置关系来调整描画位置的基础上，在基板(9)的另一个主面上描画图案。结果，可以提高在基板(9)的两侧主面上描画的图案的相对的位置精度。

技术领域

本发明涉及对基板进行描画的描画系统。

[参照相关申请]

本申请主张于2020年9月23日申请的日本国专利申请JP2020-158775的优先权的利益，该申请的全部公开内容并入本申请中。

背景技术

以往，通过对形成在半导体基板、印刷电路板、有机EL显示装置或液晶显示装置用的玻璃基板(以下称为“基板”)上的感光材料照射光来描画图案。此外，有时对基板的两面描画图案。在这种情况下，为了对准基板的两面的图案描画位置，在基板正面描画图案时，在基板背面形成定位标记。

在日本特开2016-48273号公报(文献1)的描画装置中，定位标记形成光源内置在载置基板的描画台中，从定位标记形成光源通过设置于描画台上表面的贯通孔向基板背面照射光来形成定位标记。另外，当反转基板在基板背面描画图案时，通过使用该定位标记进行定位处理，来对准基板的两面的图案描画位置。

近年来，为了提高描画装置的处理能力提出了如下方案：在1台描画装置中设置两个载物台，在对一个载物台上的基板进行描画期间，对另一个载物台上的基板进行定位处理等。在这样的双载物台式描画装置中对基板的两面进行图案描画时，对基板正面的图案描画和对基板背面的图案描画可以在同一载物台上进行，也可以在不同载物台上进行。

另一方面，基板背面上形成的定位标记的位置和基板正面上描画的图案位置之间的关系对于每个载物台(以及载物台移动机构)不同。因此，若对基板正面和基板背面的图案描画在不同的载物台上进行时，进行与对基板正面和基板背面的图案描画在同一载物台上进行时相同的定位处理，则存在基板正面描画的图案与基板背面描画的图案之间的相对位置产生偏差的担忧。

发明内容

本发明面向对基板进行描画的描画系统，其目的在于，提高在基板的两侧主面描画的图案的相对的位置精度。

本发明的优选的一方式的描画系统，具备：图案描画部，对在下方水平移动的基板的上侧主面照射光来描画图案；第一搬运机构，具备第一基板保持部以及在所述图案描画部的下方水平移动所述第一基板保持部的第一移动机构；第一标记描画部，对由所述第一基板保持部保持的基板的下侧主面照射光，来描画与所述第一搬运机构相关联的第一定位标记；第二搬运机构，具备第二基板保持部以及在所述图案描画部的下方水平移动所述第二基板保持部的第二移动机构；以及第二标记描画部，对由所述第二基板保持部保持的基板的下侧主面照射光，来描画外观与所述第一定位标记不同的与所述第二搬运机构相关联的第二定位标记。

根据上述描画系统，可以提高在基板的两侧主面描画的图案的相对的位置精度。

优选地，所述描画系统还具备：存储部，预先存储第一位置关系信息和第二位置关系信息，所述第一位置关系信息表示对由所述第一搬运机构搬运的基板由所述图案描画部在上侧主面描画的图案和由所述第一标记描画部在下侧主面描画的所述第一定位标记之间的相对的位置关系，所述第二位置关系信息表示对由所述第二搬运机构搬运的基板由所述图案描画部在上侧主面描画的图案和由所述第二标记描画部在下侧主面描画的所述第二定位标记之间的相对的位置关系；以及描画控制部，控制所述图案描画部。所述描画控制部在由所述图案描画部在描画有所述第一定位标记的主面描画图案时，基于所述第一位置关系信息调整描画位置，在由所述图案描画部在描画有所述第二定位标记的主面描画图案时，基于所述第二位置关系信息调整描画位置。