[发明专利]一种基于电控选通的大视场光学成像方法有效
| 申请号： | 202110974519.X | 申请日： | 2021-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN113840064B | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 崔浩;姚霂霖;李俊威;魏凯 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | H04N23/55 | 分类号： | H04N23/55;H04N25/74 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 江亚平 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于电控选通的大视场光学成像方法，属于光学成像技术领域，该系统包括透镜阵列、电选通模块、相机(CCD)以及后续图像处理模块。本发明通过使用透镜阵列对对不同视场角的光进行成像，利用电选通模块选通透镜阵列的不同透镜，将不同角度的入射光的光信号传输到CCD相机进行处理并生成图像，最后通过后续图像处理模块对图像进行组合拼接，得到最终所需要的大视场成像图像。相较于传统大CCD靶面或多CCD的大视场成像，本发明的透镜阵列系统整体结构紧凑、重量轻便、集成度更高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 电控选通 视场 光学 成像 方法 | ||
【主权项】：
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