[发明专利]一种基于电控选通的大视场光学成像方法有效

专利信息
申请号: 202110974519.X 申请日: 2021-08-24
公开(公告)号: CN113840064B 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 崔浩;姚霂霖;李俊威;魏凯 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: H04N23/55 分类号: H04N23/55;H04N25/74
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 江亚平
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 电控选通 视场 光学 成像 方法
【权利要求书】:

1.一种基于电控选通的大视场光学成像方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

步骤(1)、光源所发出的光入射到透镜阵列,所述透镜阵列的不同透镜能对不同视场角的光进行成像;

步骤(2)、通过电选通模块选通所述透镜阵列的不同透镜,所述不同透镜将不同角度的入射光的光信号传输到CCD相机进行处理并生成图像;

步骤(3)、通过后续图像处理模块对所述图像进行组合拼接,从而得到所需的大视场光学成像图像;

其中,通过由电极和马赫-曾德尔干涉仪组成的电选通模块对透镜阵列的不同透镜进行选通。

2.根据权利要求1所述的一种基于电控选通的大视场光学成像方法,其特征在于:所述的光源为大视场角光源。

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